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  • GMD2000/4吡喹酮混懸液研磨分散機
    吡喹酮混懸液研磨分散機

    吡喹酮混懸液研磨分散機運行原理: 混懸液研磨分散機在電動機的高速轉動下物料從進口處直接進入混懸液破碎區,通過一種特殊粉碎裝置,將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎,然后吸入剪切粉碎區,在十分狹窄的工作過道內由于轉子刀片與定子刀片相對高速切割從而產生強烈摩擦及研磨破碎等。

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  • GMD2000/4頭孢克洛混懸液研磨分散機
    頭孢克洛混懸液研磨分散機

    GMD2000系列頭孢克洛混懸液研磨分散機具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑微米級0.2-2μm,可以確保高速分散乳化的穩定性。該設備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質混合。德國進口分散乳化機由定/轉子系統生的剪切力使得溶質轉移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

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